236. 光学镀膜用铌靶材

【所属领域】关键材料

【中央企业名称】中国有色矿业集团有限公司

【成果简介】平面铌靶材通常称为裸靶，使用前先将其与铜背靶进行焊接，然后在专用机台上进行溅射，将铌原子以氧化物形成淀积在基板材料上，实现溅射镀膜。裸靶的性能决定了溅射镀膜过程的稳定性及薄膜的电性能。旋转铌靶材作为抗反射层镀膜材料，通过溅射镀膜将感应膜和抗反射膜由之前分开在两层玻璃上改进为整合在一块玻璃上，使触控屏厚度越来越薄、体积越来越小，主要应用于先进触控屏、平面显示器以及节能玻璃的表面镀膜等领域。

【主要指标】

1. 材料纯度：99.95-99.98%

2. 晶粒尺寸：20-50μm

3. 织构分布：织构均匀且100、111织构占优

4. 制备出外径Φ155/内径Φ125×L2413为代表的旋转铌靶材

5. 制备出以L320×B100×δ8（mm）为代表的平面铌靶材

6. 设计并加工完成深孔加工刀具1套

【应用推广需求】

1. 应用推广方式：销售

2. 应用推广领域：主要应用于光学镀膜如镜头镀膜、触摸屏镀膜等，以及表面工程材料镀膜，如船舶、化工、液晶显示器（LCD）以及耐热、耐腐蚀高导电等镀膜行业。主要应用企业有德国莱宝、利达光电、上海承耀、北京华创、深圳福耐科技、南京欧美达、印度圣戈班等。

【成果图片】

图1

图2

图3

【联系人】

成果联系人：张学林，15121968359，262272409@qq.com

集团联系人：曹未，010-84426520，cnmc1120@163.com

【责任编辑：俞昭君】