218. 半导体刻蚀气六氟丁二烯

【所属领域】关键材料

【中央企业名称】中国中化控股有限责任公司

【成果简介】六氟丁二烯是一种新型的含氟绿色电子蚀刻气，具有蚀刻速率快、高深宽比、高选择性的优点，可以实现近乎垂直的蚀刻加工，为制造小体积、大容量的3D NAND闪存提供了可能；同时六氟丁二烯环境友好，温室效应潜值（GWP值）仅为290，大气寿命1.9天，是当前唯一兼具优异蚀刻性能和环保性能的含氟电子蚀刻气。

中国中化自主研发了一条以副产含氟烯烃为主要原料的新路线，率先突破六氟丁二烯合成、纯化以及工程化技术瓶颈，建成国内首套具有自主知识产权的200吨/年装置，是国内首家实现六氟丁二烯工业化生产的企业，填补了国内高端含氟电子气体生产的空白，为我国高端集成电子组件自主研发、制造提供了关键原料气保障。同时电子级产品纯度可以达到99.99%以上，远高于国内外99.9%的行业水平。

【主要指标】

1. 电子级产品纯度：99.99%

2. 纯度工业级产品：99.8%

【应用推广需求】

1. 应用推广方式：销售

2. 应用推广领域：电子材料领域作为蚀刻气体，用于大规模集成电子组件、3D NAND闪存制造工业制品等。

【 成果图片】

图1

图2

 

图3

【联系人】

集团联系人：朱丹，010-59569640，zhudan5@sinochem.com

成果联系人：徐凌峰，18157189953，xulingfeng@sinochem.com

【责任编辑：俞昭君】