296. 大束流离子注入机

【所属领域】高端装备

【中央企业名称】中国电子科技集团有限公司

【成果简介】

大束流离子注入机，解决了宽带束分析器，剂量均匀性精确控制、污染控制、靶室高效传输等关键技术，实现了45-22纳米集成电路芯片制造掺杂工艺的产品应用。通过研究45-22纳米超浅结注入工艺，分析注入工艺参数对掺杂杂质分布的影响，完成采用低能离子注入技术形成超浅结的45-22纳米演示器件的工艺制备。该设备通过28纳米芯片量产应用验证，填补国内空白，应用于中芯国际等国内主要芯片制造厂商。

大束流注入机能量范围大，同时在低能段表现出色；在能量、颗粒、金属污染方面满足工艺需求，拥有高效晶圆传输与扫描系统，保证了较高的WPH。

【主要指标】

1.能量：0.2-60KEV；能量精度：±0.5%

2.能量污染：＜0.05%；注入角度：±90deg

3.注入角度精度：±0.2 deg；平行度：±0.5 deg@≥2KEV;±1 deg@＜2KEV

4.注入方式：单片；晶圆尺寸：300mm：0.5%@≥2KEV;1%@＜2KEV

5.剂量均匀性：剂量重复性：0.7%@≥2KEV;1%@＜2KEV

6.可靠性指标：MTBF≥300h, MTTR＜4h

7.金属污染：Heavy Metal≤5ppm,Al≤50ppm

【应用推广需求】

1.应用推广方式：销售

2.应用推广领域：集成电路制造行业。

【成果图片】

图1

图2

【联系人】

集团联系人：丁一牧，010-84352395（13552993699），dingyimu@vip.163.com

成果联系人：宋敏，15510095727，Songmin@cs48.com

【责任编辑：王占朝】