【成果简介】

钽是重要的稀有难熔金属材料，具有良好的耐热、耐蚀、耐氧化性，有优越的抗原子迁移能力，是集成电路线宽45nm以下半导体芯片阻挡层优选的溅射靶材料。东方钽业生产的高纯钽靶用高纯钽粉纯度达到了99.998%（4N8），其中难熔金属W、Mo、Nb含量总和小于0.4ppm，达到了国内领先、国际先进水平，完全可以满足6N高纯钽靶用高纯钽粉的指标要求，为国内开发12英寸溅射钽靶材提供关键材料支持。

【主要指标】

（一）钽粉W、Mo、Nb高熔点杂质含量：W、Mo、Nb杂质总和平均值小于0.35ppm

（二）钽粉氧含量：钽粉氧含量平均值小于600ppm

（三）高纯钽靶用超高纯钽粉纯度：高纯钽粉纯度达到99.998%（4N8）

【应用推广需求】

（一）应用推广方式：销售

（二）应用推广领域：金属材料

【成果图片】

 

【联系人】

集团联系人：陈胜川，18209520981，chenshengchuan@cnmc.com.cn

成果联系人：张学林，15121968359，262272409@qq.com

【责任编辑：贾建慧】