69：12英寸高纯（5N）钽靶材

一、成果简介

本产品由有研亿金新材料有限公司开发，是130～5nm制程铝衬垫层、铜互连阻挡层用核心材料，集成3项专利成果，适用于集成电路领域，采用微观组织控制、高可靠性异种金属扩散焊接、精密机加工三大技术，性能适配90～5nm制程集成电路、3D NAND Flash先进存储及高端传感器件，已应用于国内外多家头部芯片企业。

二、主要指标

（一）高纯钽靶材纯度≥5N5（99.9995wt%）；

（二）高纯钽靶材直径≥Φ450mm；

（三）高纯钽靶材厚度≥8mm；

（四）高纯钽靶材焊合率≥99%；

（五）高纯钽靶材平均晶粒尺寸≤80μm；

（六）高纯钽靶材轧制面取向占比

1.板材轧制面取向{111} ≤50%；

2.板材轧制面取向{100} ≤35%；

3.板材轧制面取向{110} ≤20%。

三、联系方式

高  岩，13552009975，gy@grikin.com

 

70：12英寸超高纯（6N）铜锰靶材

一、成果简介

本产品由有研亿金新材料有限公司开发，集成8项专利成果，获得国家级创新奖、行业协会科学技术奖等多项奖项。产品采用了大尺寸铸锭熔炼、微观组织控制、高可靠性焊接等技术，可应用于14～7nm芯片互连线薄膜先进制程，已批量供应国内头部芯片企业。

二、主要指标

（一）靶材纯度≥99.9999wt%；

（二）靶材直径≥Φ440mm；

（三）平均晶粒尺寸≤50μm；

（四）焊合率≥99%；

（五）表面粗糙度≤0.8μm。

三、联系方式

高  岩，13552009975，gy@grikin.com

 

71：紫外级（4N）氧化铪光学镀膜材料

一、成果简介

本产品由有研资源环境技术研究院（北京）有限公司开发，集成4项专利成果，采用N235-H2SO4萃取体系和9级错流工艺实现铬钴深度分离技术，具有蒸发稳定不易喷溅、成膜致密、膜层紫外透过率高、抗激光损伤阈值高等特点，可满足高能激光器与大型光学装置需求，已累计销售10余吨。

二、主要指标

（一）Zr含量＜0.5wt%；

（二）纯度≥99.99%；

（三）相对密度＞95%；

（四）闭合气孔率＜3%。

三、联系方式

桂  涛，17501101334，guitao@grinm.com

 

159：电子级超高纯金属大型电子束熔炼提纯装备

一、成果简介

本产品由有研工程技术研究院有限公司开发，集成39项专利成果，可用于半导体靶材用超高纯金属原材料批量生产，所熔炼的超高纯金属铜、钽、钴、镍纯度分别达到99.9999%、99.9999%、99.999%和99.995%，超高纯铜、钽铸锭直径达到280mm、400mm。已应用于1600kW超高纯金属电子束熔炼炉项目。

二、主要指标

（一）最大功率：1600kW；

（二）电子枪功率：800kW；

（三）加速电压：60kV；

（四）最大偏转角：±45°；

（五）极限真空度：5×10^-4Pa；

（六）升压率：0.67Pa/h。

三、联系方式

朱宝宏，13810118386，zhubh@grinm.com

【责任编辑：刘祉妤】